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從瑞利判據(jù)到數(shù)字光場:光刻分辨率的極限與工程實踐的權(quán)衡

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在實際應(yīng)用中,澤攸科技的設(shè)備已被用于二維材料器件的電極制備、微流控芯片的快速成型......

衍射極限與超分辨率的物理直觀:從光學(xué)到電子束的跨越

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在微納加工領(lǐng)域,電子束光刻(EBL) 技術(shù)也利用了電子束的短波長優(yōu)勢。它使用聚焦......

濕粘顆粒堵孔難:翻轉(zhuǎn)流篩技術(shù)實現(xiàn)高效分離

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在當(dāng)前推動礦產(chǎn)資源清潔高效利用的國家政策背景下,振動篩分作為煤炭等關(guān)鍵能源資源加......

從物理模板到數(shù)字光場:無掩模光刻技術(shù)如何重構(gòu)微納加工的研發(fā)范式

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光刻無疑是定義器件幾何形態(tài)的基石。對于那些深耕于電子顯微鏡及原位測量系統(tǒng)領(lǐng)域、擁......

澤攸科技壓電驅(qū)動技術(shù)突破:雙模式電機(jī)實現(xiàn)從毫米級到納米級的無縫精密運(yùn)動

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壓電超聲電機(jī)(USM)利用壓電材料的逆壓電效應(yīng),通過高頻結(jié)構(gòu)振動共振模式實現(xiàn)驅(qū)動......

澤攸科技電子束光刻機(jī)助力實現(xiàn)30nm超小間隙納米十字天線

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澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(jī)(EBL)是一款高性能、高精度的光刻設(shè)備,專為......

國內(nèi)EBL鄰近效應(yīng)修正技術(shù)面臨的挑戰(zhàn)

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EBL憑借電子波長短,不受衍射限制等優(yōu)勢,對比光學(xué)光刻具有更高的理論極限分辨率,......

澤攸科技DMD無掩膜光刻機(jī)賦能仿視網(wǎng)膜雙模光電探測器的制備

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隨著機(jī)器視覺技術(shù)在無人機(jī)、智能車輛和移動機(jī)器人等領(lǐng)域的快速發(fā)展,實時成像系統(tǒng)對硬......

澤攸科技DMD無掩膜光刻機(jī)助力高性能二維材料器件的研發(fā)

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近年來,二維(2D)層狀晶體及其異質(zhì)結(jié)構(gòu)由于其電學(xué)、光學(xué)和機(jī)械性能而受到了廣泛關(guān)......