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無掩膜光刻機

無掩膜光刻機 澤攸科技無掩模光刻機是一種先進的光刻技術設備，它不需要使用傳統(tǒng)的物理掩膜版來轉移電路圖形，而是通過計算機控制的高精度光束直接在感光材料上進行掃描曝光，形成所需的微細圖形。目前在微電子制造、微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領域有廣泛的應用。

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    澤攸科技無掩膜光刻機是一種先進的光刻技術設備，它不需要使用傳統(tǒng)的物理掩膜版來轉移電路圖形，而是通過計算機控制的高精度光束直接在感光材料上進行掃描曝光，形成所需的微細圖形。目前在微電子制造、微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領域有廣泛的應用。

    技術特點

    ▲ 納米壓電位移臺拼接技術

    ▲ 紅光引導曝光，所見即所得

    ▲ OPC修正算法優(yōu)化圖形質量

    ▲ CCD相機逐場自動聚焦

    ▲ 灰度勻光技術

    光路遠離結構圖

    光路遠離結構圖

    主要指標

    技術參數(shù).png

    應用案例

    應用案例

    應用案例

    應用案例

    kefu-weixin.png

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