電子束光刻機的掃描方式取決于設備架構和控制系統(tǒng)設計。常見掃描方式主要包括以下幾類。

首先，矢量掃描。

電子束只在需要曝光的圖形區(qū)域移動，不掃描空白區(qū)域，適合線條、納米結構等稀疏圖形。優(yōu)點是效率高、劑量控制精確，是科研型電子束光刻中常見方式。

第二，柵格掃描。

類似掃描電鏡成像方式，電子束按行逐點掃描整個曝光區(qū)域，通過控制每個像素的開關或劑量實現(xiàn)圖形寫入。適合灰度曝光或復雜面陣圖形，但效率相對較低。

第三，步進場掃描。

將大面積圖形劃分為多個小寫入場（field），在一個場內完成掃描后，樣品臺移動到下一個位置繼續(xù)寫入。這種方式解決了偏轉線圈掃描范圍有限的問題，關鍵指標是場拼接精度。

第四，連續(xù)掃描與分段掃描。

部分系統(tǒng)支持連續(xù)路徑掃描（適合長線結構），也可采用分段塊狀寫入以提高大面積填充效率。

第五，多束掃描。

新一代系統(tǒng)采用多電子束并行寫入，大幅提高寫入速度，主要面向掩膜版或高產能需求場景。

第六，灰度劑量調制掃描。

通過改變束流停留時間或重復曝光次數(shù)，實現(xiàn)不同劑量分布，用于三維納米結構加工。