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掃描電鏡非導(dǎo)電樣品如何避免電荷積聚

日期:2025-10-10

在掃描電鏡(SEM)中觀察非導(dǎo)電樣品時,電荷積聚是常見問題,會導(dǎo)致圖像發(fā)亮、漂移或失真。為了避免電荷積聚,可以采取以下幾種方法:

樣品鍍導(dǎo)電層:

使用金(Au)、鉑(Pt)、碳(C)等材料在樣品表面鍍上一層幾納米厚的導(dǎo)電膜,使表面電荷能夠快速泄放。

降低加速電壓:

通過降低電子束能量(如從 15 kV 降到 1–5 kV),減少電子在樣品內(nèi)部的穿透深度,從而減輕電荷積聚。

使用低真空或環(huán)境掃描電鏡模式(ESEM):

在低真空模式下,腔體中存在少量氣體分子(如水蒸氣),這些分子能中和樣品表面的電荷。

采用導(dǎo)電膠或?qū)щ娿y漆連接樣品:

在樣品與樣品臺之間加導(dǎo)電連接,使電荷能夠有效傳導(dǎo)至接地系統(tǒng)。

選擇合適的觀測角度與束流強度:

減小電子束電流密度,或改變?nèi)肷浣牵梢詼p輕局部電荷積累。

使用電子束掃描補償技術(shù):

一些先進的掃描電鏡具有電荷中和或電子束補償功能,可自動調(diào)整電子流量以抵消電荷效應(yīng)。


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作者:澤攸科技