掃描電鏡（SEM）和傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡在原理、分辨率、放大倍數(shù)和樣品類型等方面存在顯著的不同。以下是它們之間的主要區(qū)別：

原理：傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡使用可見光來觀察樣品，而掃描電鏡使用電子束。傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡利用透射光的原理，而掃描電鏡則利用從樣品表面反射、散射的電子束。

分辨率：傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡的分辨率通常受限于光的波長，大約在數(shù)百納米級(jí)別。相比之下，掃描電鏡的分辨率較高，通常可以達(dá)到亞納米級(jí)別甚至更好，取決于具體的系統(tǒng)和操作條件。

放大倍數(shù)：傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡的放大倍數(shù)通常在幾百倍到數(shù)千倍之間。而掃描電鏡具有更大的放大倍數(shù)范圍，通常從幾百倍到數(shù)十萬倍不等，甚至可以達(dá)到百萬倍級(jí)別。

樣品類型：傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡適用于透明樣品和薄片，例如生物細(xì)胞、組織切片和液晶樣品等。掃描電鏡適用于非透明樣品，包括金屬、陶瓷、聚合物、納米材料、粉末等。此外，掃描電鏡通常需要對(duì)樣品進(jìn)行特殊的制備，如金屬涂層或真空處理。

表面拓?fù)洌簜鹘y(tǒng)光學(xué)顯微鏡主要觀察樣品的表面形貌和透明性。而掃描電鏡能夠提供更詳細(xì)的表面拓?fù)湫畔ⅲ悠繁砻娴募y理、形狀、孔隙、凹凸等微觀結(jié)構(gòu)。

成像模式：傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡通常以亮場(chǎng)成像為主，樣品在明亮的背景下觀察。而掃描電鏡可以提供不同的成像模式，包括二次電子成像、反射電子成像、能量分散X射線成像等。

ZEM15臺(tái)式掃描電子顯微鏡

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